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Home > 제품소개 > Exposure System
Exposure System
프로윈의 Exposure System은 감광액(PR: Photo Resist)이 도포된 반도체용 웨이퍼나 유리기판위에 회로가 그려진 포토 마스크를 올려놓고 UV를 조사함으로써 미세 패턴을 얻을 수 있는 Optical Lithography 장비입니다. 정렬 없이 단층 Patterning에 사용됩니다.
| Item | Specifications |
|---|---|
| Mask Size | 5 ~ 7 inch |
| Substrate Size | 4 ~ 6“ |
| Lamp Power | 350 Watt (Mercury lamp) |
| Wave Length | 350 ~ 450 nm |
| UV Intensity | 15 ~ ≤25 mW/cm2 |
| UV Beam Uniformity | 3~5 % |
| Contact Mode | Vacuum / Hard / Soft |
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