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셀 노광 시스템
셀 노광 시스템은 터치스크린 패널 투명전극 노광 용으로 4개의 셀을 동시에 전자동으로 노광을 진행할 수 있으며 전자동 노광을 위해 Proximity 노광 방식을 채택하여 대량 생산용으로 개발되었다. 본 셀 노광기를 채택할 경우 월 20 만장의 양산이 가능하며 향후 터치패널 산업의 기술개발 현장에서 주도적인 역할을 할 것입니다.
주요특징
초정밀 광학계를 이용한 미세선폭 구현
- - High Efficiency, 1 KW UV Exposure Module
- - Precision Alignment System (X,Y,Z and theta)
- Full Automatic System
- - Automatic Loading and Unloading System Convey System
- - Automatic Alignment System
- High Throughput Processing
- - Low Tact Time
- - 양산성 향상
- - 20 만장 /월 생산 가능
- Wide Exposure Area and High Intensity Uniformity
- - Wide Exposure Area : Beam Size Max 200 mm X 200 mm
- - High Intensity Uniformity Better Than ±5 %
- - UV Intensity : 365 nm: 15 ~ ≤20 mW/㎠
| Item | Specifications |
|---|---|
| Mask Size | Max 9×9 inch |
| Substrate Size | 3.5”~6.3” |
| Lamp Power | 1~2kw |
| Lamp Head | 4 Head |
| UV Beam Size | 8.25×8.25 inch |
| Beam Uniformity | ±5% |
| Beam Intensity | 365nm : 20mW~40Mw/㎠ |
| Alignment Accuracy | ±5㎛ |
| Resolution | 50㎛ proximity : 5㎛ (Thin PR @ Si wafer 기준) |
| Contact Mode | Proximity |
| Microscope | Dual Motorizing Zoom Microscope |
| Operation System | Auto |
| Tact time | 50만장 / 월 |
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